Ảnh hưởng của dòng điện, điện áp và thời gian xử lý tới khả năng tiệt trùng E.COLI bằng phóng điện trực tiếp trong nước

Nội dung text: Ảnh hưởng của dòng điện, điện áp và thời gian xử lý tới khả năng tiệt trùng E.COLI bằng phóng điện trực tiếp trong nước

1. ẢNH HƯỞNG CỦA DÒNG ĐIỆN, ĐIỆN ÁP VÀ THỜI GIAN XỬ LÝ TỚI KHẢ NĂNG TIỆT TRÙNG E.COLI BẰNG PHÓNG ĐIỆN TRỰC TIẾP TRONG NƯỚC Trần Ngọc Đảm 1, Vũ Văn Đan 1 1 Đại Học Sư Phạm Kỹ Thuật TP. HCM Tóm tắt Các công nghệ tiệt trùng nước truyền thống lộ rõ những nhược điểm như sử dụng hoá chất hay tiêu tốn nhiều năng lượng. Để giải quyết vấn đề trên, nghiên cứu này hướng đến phương pháp khử khuẩn bằng plasma theo nguyên lý phóng điện trực tiếp trong nước sản sinh ra các tác nhân có khả năng diệt khuẩn * * * mạnh như UV, sockwave, nhiệt, gốc OH , O , H , H2O2, O3. Một bộ nguồn phát plasma trực tiếp trong nước và một mô hình thực nghiệm được tính toán, thiết kế và chế tạo nhằm đánh giá hiệu quả xử lý. Đáp ứng điện áp và đáp ứng dòng điện trong quá trình phóng điện được khảo sát kết hợp với kết quả sau xử lý để đánh giá các yếu tố ảnh hưởng tới kết quả xử lý như Vp-p ,Vmax ,Vmin , VRMS , Ip-p , Imax , Imin , IRMS ,f, nđỉnh , t. Dung dịch NaCl 0.9% và nước thủy cục được dùng để cấy E.Coli. Phương pháp trực giao được sử dụng để thiết kế thí nghiệm. Cuối cùng hiệu quả năng lượng được so sánh, năng lượng cần thiết để giảm 4 mũ nồng độ E.coli trong một lít nước là 26.2kJ. Từ khóa: Tiêt trùng nước, plasma pha nước, phóng điện trong dung dịch, E.coli. EFFECT OF CURRENT, VOLTAGE, TREATMENT TIME ON KILLING E.COLI BY PLASMA DISCHARGE IN LIQUID Abstract: The traditional technologies for sterilization bacterial have some disadvantages such as using chemistry addition and using much energy. To solve this problem, plasma that was generated by electric discharge directly was studied. All products that were created in water, such as UV radiation, shock waves, heat, * * * radical OHOH , O , H , H2O2, O3 can kill bacterial efficiency. A principle that is bacterial sterilization by electric discharge in water was given. A power supply and model experiment was designed and fabricated to valuing sterilization efficiency. Voltage response and current response were investigated to determine factors which effect on results such as Vp-p ,Vmax ,Vmin , VRMS , Ip-p , Imax , Imin , IRMS ,f, npeak , t. NaCl 0.9% solution and tap water were used to be E.coli environment. Orthogonal method was used to design experiments. 11 experiments were taking place. The distance between electrodes, voltage and period of time were changed for experiment. The FCU method was used to calculate concentration of E. Coli. The temperature and pH also were researched. A configuration of electrodes was presented. Finally, the energy cost was considered. The energy need to reduce four-log E. Coli concentration is 26.2 KJ for 1 liter. Keywords: Water purification, plasma discharge in liquid, E.coli. 1. Giới thiệu. điện cũng thay đổi cường độ theo thời gian nhưng không đảo chiều. Mục đích của việc sử Bộ nguồn thiết kế là bộ nguồn xoay chiều dịch dụng nguồn điện xoay chiều dịch mức vì cấu tạo mức. Toàn bộ biên độ điện áp đều ở mức dương đơn giản mà dạng song ngõ ra gần giống với có nghĩa là điện áp chỉ thay đổi biên độ theo thời nguồn DC xung. Nguồn điện 1 chiều cho lợi thế gian chứ không đảo chiều dẫn đến việc dòng lớn khi tạo dòng plasma 1 chiều. Lúc này tổn 1
2. thất năng lượng truyền tải thấp hơn dòng plasma được thực hiện theo phương pháp tiêu chuẩn. 2 chiều vì điện tử khi dịch chuyển trong điện Nồng độ E.Coli trước xử lý được kiểm soát ở trường mạnh do có quán tính phải tiêu tốn năng mứu 106 CFU. Sau khi xử lý, mẫu được đo lại để lượng để giảm vận tốc điện tử về không và đảo đánh giá khả năng khử khuẩn của plasma. chiều điện tử. Thông số thiết kế bộ nguồn thực Phương pháp định lượng nồng độ E.Coli được nghiệm trình bày trong bảng 1. thực hiện bằng phương pháp đếm trên đĩa tiêu chuẩn. Toàn bộ công việc này được thực hiện tại Điện Điện phòng Vi sinh, khoa Công nghệ hóa học và thực Công áp Tần Dạng áp phẩm, UTE. suất ngõ số sóng ngõ [kW] vào [Hz] ngõ ra 2. Mô hình thí nghiệm ra [V] [V] Xoay Giá chiều 2 220 2000 50 trị dịch mức Bảng 1: Thông số bộ nguồn phóng điện trong nước Đặc tính điện khảo sát là đáp ứng ngõ ra của Hình 1: Cấu tạo điện cực (trái) và hình ảnh thực điện áp và dòng điện đặt trực tiếp trên 2 đầu điện tế (phải): 1- dụng cụ đựng dung dịch (thủy tinh cực. Bộ dao động ký được sử dụng là Textronix 250ml), 2- thước đo ( thang đo 1mm), 3- điện TPS 2024B đi kèm với đầu dò cao áp. Bộ dao cực dương (tungsten đường kính 1.5mm), 4- động ký với điện áp đo lớn nhất 1000V không điện cực âm (tungsten đường kính 1,5mm). thể sử dụng trong thí nghiệm này vì điện áp khảo sát dự kiến lớn nhất là 2000V. Do đó bộ thí được thiết kế them mạch cầu phân áp để hạ điện áp c giữa 2 đầu đo xuống 3 lần nhờ 3 điện trở 470kΩ. Để khảo sát dạng dòng điện đặt trên 2 điện cực, nghiên cứu này sử dụng máy kiểm tra, phân tích công suất và sóng hài Hioki 3197 kết hợp với đầu dò Hioki 9660 dạng kẹp thang đo cực đại 100A. Điện áp và dòng điện đầu vào được đo bằng đồng hồ VOM điện tử Wellink HL 1220. Công tác đo đặc được thực hiện tại phòng D405, khoa Điện Điện Tử, trường Đại Học Sư Phạm Kỹ Thuật Thành Phố Hồ Chí Hình 2: Sơ đồ nguyên lý bộ nguồn AC đổi mức Minh được kết nối với buồng phản ứng: 1- buồng phản Sự hình thành và lan truyền rễ plasma và bong ứng, 2- điện cực dương, 3- điện cực âm, 4- dao bóng được ghi lại bằng máy ảnh Nikon 3300. động ký, C- tụ điện xoay chiều (2100V 1µF), D- đi ốt ( 2500V), R- Điện trở ( Để đánh giá khả năng khử khuẩn, nghiên cứu R1=R2=R3=470kΩ), V- vôn kế, A- ampe kế. này dựa trên vi khuẩn E.Coli. Việc nuôi cấy 2
3. . 3. Phân tích mô hình d2 i( t ) di ( t ) dR ( t ) 1 L2 R( t ) i ( t ) 0 dt dt dt C Giải phương trình trên ta được đáp ứng của dòng điện theo thời gian i(t). Sau khi có i(t) ta tìm đáp ứng điện áp bằng biểu thức: u( i ) i ( t ). R ( t ) Hình 3: Nguyên lý bộ nguồn Tầng dịch mức Mô hình thí nghiêm được sử dụng trong nghiên cứu Loại mạch kẹp đơn giản sử dụng một Diode kết hợp này có cấu hình điện cực là điểm-điểm có cấu tạo với mạch RC. Tụ C đóng vai trò là phần tử tích - đơn. Nguồn điện đầu vào là nguồn điện xoay chiều, phóng năng lượng điện trường, Diode D đóng vai trò tần số 50Hz thông qua máy biến áp để thay đổi điện là khóa điện tử. Các giá trị R và C phải chọn thích áp trong quá trình thí nghiệm. Sau đó nguồn điện sẽ hợp, để hằng số thời gian τ = RC đủ lớn nhằm làm được nhân áp lên 10 lần thông qua 1 biến áp cao áp. sụt áp qua tụ C không quá lớn hoặc tụ C không được Nguồn điện ngõ ra sẽ trở thành nguồn điện xoay xả điện nhanh. Tụ nạp đầy và phóng điện hết trong chiều dịch mức tần số 50Hz nhờ tụ C và diode D. thời gian τ đến 5τ. Do đó lựa chọn giá trị của R và C Để khảo sát đáp ứng điện áp và dòng điện trên hai sao cho: điện cực, ta mô hình hóa dòng plasma bằng một điện T 10 trở. Điện trở đặc trưng cho khả năng cản ở dòng điện qua hai điện cực. Điện trở tương đương có thể được mô xây dựng từ phương trình sau [36]. Các hệ số A, a, b lấy từ hình 4. 2 ta R( t ) A .e b R 0 Hình 5: Dạng sóng điện áp mô phỏng của quá trình phóng điện trong nước dùng dòng điện xoay chiều dịch mức điện áp ngõ vào 220V. Hình 4: Dạng sóng điện trở [36] Tầng phối hợp trở kháng: Áp dụng định luật Kirchoff cho mạch vòng tầng tải ta có: Để giảm thiểu tổn hao năng lượng giữa nguồn cung cấp và tải ta cần thiết kế bộ phối hợp trở kháng. Có di( t ) 1 L R( t ) i ( t ) i ( t ) dt 0 hai kiểu phối hợp trở kháng phổ biến đó là dùng máy dt C biến áp và dùng mạch phối hợp trở kháng. Để thuận tiện trong việc thiết kế và chế tạo, nghiên cứu này sử Đạo hàm 2 vế ta được: 3
4. dụng phương pháp phối hợp trở kháng bằng máy biến áp. Để hiệu suất đạt cực đại thì: 2 Rn 11 Rn 22 Trong đó R1 là tổng trở nguồn, R2 là tổng trở tải. 2 ta R R( t ) A .e b R 20 Với yêu cầu thiết kế điện áp đầu ra là V2=2000V, điện áp đầu vào V1= 220V, giá trị tổng trở tải đầu vào được tính bằng công thức: Hình 7: Dạng sóng dòng điện của quá trình phóng 22 điện corona nV11 RRR1 2 2 nV 22 Vin Iin RMS[A] Vout Iout RMS[A] RMS[V] Tầng nguồn 60 2.25 188x3 0.11 Công tác khảo sát được thực hiện trên một bộ thí nghiệm duy nhất dựa trên một dạng cấu hình điện 80 3.5 221x3 0.18 cực duy nhất. Buồng phản ứng có thể kết nốt với tất 100 4.5 234x3 0.24 cả các nguồn cung cấp khác nhau như AC, DC, DC xung, AC tần số cao, DC tần số cao. 120 6 ~100x3 0.29 4. Kết quả và thảo luận Bảng 2: Tổng hợp thông số quá trình phóng điện corona Dạng sóng ngõ ra: Phóng điện corona: Phóng điện spark: Hình 8: Dạng sóng điện áp của quá trình phóng điện spark Hình 6: Dạng sóng điện áp của quá trình phóng điện corona điện áp ngõ vào theo thứ tự là 60V,80V,100V,120V: khoảng cách điện cực 10mm, Hình 9: Dạng sóng dòng điện của quá trình phóng điện cực bọc cách điện điện spark 4
5. Vin Iin RMS[A] Vout Iout RMS[A] Từ dạng sóng điện áp và dòng điện thu được khi so RMS[V] sánh với mô hình điện trở hình 3.2 ghi nhận sự phù hợp của thiết kế với mô hình toán. 60 3.5 145x3 0.19 Khử khuẩn 80 4.8 113x3 0.26 Kết quả xử lý vi khuẩn E.Coli được thể hiện trong 100 5.7 74x3 0.33 hình 10. Kết qủa xử lý phóng điện corora không đạt Bảng 3: Tổng hợp thông số của quá trình phóng hiệu quả xử lý cao. Nhưng khi mẫu lưu 2h sau khi điện spark xử lý được đem đi đo thì cho hiệu quả tương đối tốt. Nguyên nhân được cho là do trong quá trình xử lý Hình 5 thể hiện việc dịch mức nguồn AC lý thuyết plasma thì các thành phần hóa học có khả năng khử và hình 6, hình 8 là dạng sóng điện áp ngõ ra thực khuẩn mạnh như gốc OH, H, O, H2O2, Cl2, Cl2O2 tế. Trong dạng sóng ngõ ra thực tế, có thể thấy rằng tham gia trong quá trình xử lý kéo dài. [37] điện áp chưa được dịch mức như mong muốn theo lý thuyết. Điện áp thí nghiệm qua biến áp cao áp nhân 10 tương đương điện trường 106V/m ứng với khoảng cách điện cực là 2mm. Vì sử dụng cầu phân áp 3 điện trở nên giá trị hiện thị trên dao động ký sẽ được nhân 3 đúng với thực tế. Giá trị thực tế còn có sự xuất hiện của vùng điện thế âm. Điều này chứng tỏ mạch thiết kế chưa tốt, cụ thể là việc lựa chọn giá trị chưa tốt. Nhưng việc lựa chọn cũng gặp nhiều khó khăn. Vì thông số lựa chọn là tụ điện và điện trở. Ở đây điện trở là nước mà luôn bị thay đổi trong quá trình phóng điện nên việc lựa chọn không như mong muốn. Hình 10: Kết quả xử lý bằng phóng điện corona, dung môi NaCl, độ dẫn điên 15000µS/cm, khoảng Một điểm nữa là dạng điện áp không như lý thuyết cách điện cực 10mm, dung tích xử lý 200ml (điện áp mà có nhiều răng cưa ở khu vực bụng song và đạt đo ngõ vào) giá trị định mức ở sườn dốc trái và sường dốc phải. Ở đây ghi nhận 3 giai đoạn đó là sự gia tăng cường Để kiểm tra lại hiệu quả xử lý kéo dài. Tác giả tiến độ dòng điên, sư duy trì dòng điện và sự suy yếu. hành thí nghiệm với các điều kiện thí nghiệm như Khi so sánh dạng sóng ngõ ra của điện áp và dòng cũ. Mẫu sau khi xử lý plasma được lưu 10 phút sau điện trong cùng chu kỳ tần số, có thể thấy rằng tại đó tiến hành xử lý tiếp. Mục đích để xác định ảnh thời điểm ban đầu của quá trình phóng, lúc này chưa hưởng của xử lý trực tiếp ( UV, shockwave) và ảnh xuất hiện rễ điện dòng điện dẫn chưa xuất hiện, giá hưởng xử lý gián tiếp (gốc OH, H, O, H2O2, Cl2, trị trên dạng sóng dòng điện thấp vì điện áp chưa đạt Cl2O2). Thời gian lưu mẫu 10 phút vì để đảm bảo mức cần thiết. Điện áp tăng nhanh ở sườn dốc lên E.coli sẽ không tự nhân đôi. Thời gian tự nhân đôi là khiến cho dòng điện tăng. Khi điện áp đạt ngưỡng, 15 phút. dòng dẫn ổn định, dòng dẫn ổn định thể hiện ở dạng sóng dòng điện. Khi dòng dẫn ổn định thì không cần Kết quả thí nghiệm khi thay đổi dạng phóng điện điện áp cao nữa mà dòng plasma vẫn được duy trì spark hay corora, điện áp phóng thay đổi, thời gian nên điện áp giảm nhanh. Ở giai đoan cuối của bán xử lý thay đổi, 10 phút xử lý kéo dài cho thấy cả kỳ. Dòng plasma suy yếu nên để giữ trạng thái ổn dạng phóng điện spark và corona đều ít tác dụng xử định điện áp có xu hướng gia tăng để duy trì dòng lý trực tiếp nhưng lại hiệu quả khi xử lý kéo dài. plasma. Ở nửa bán kỳ tiếp theo điện áp và dòng điện Hình 11 là kết quả nồng độ độ E.coli sau xử lý có ổn định. tính đến xử lý kéo dài. 5
6. trực tiếp bằng UV thấp. Bằng các thí nghiệm lưu mẫu sau xử lý 10 phút rồi mới tiến hành đo đạc cho kết xử lý tốt. Mẫu lưu 2 giờ cho hiệu quả xử lý giảm 4 mũ nồng độ E.coli. Điều này chứng tỏ hiểu quả xử lý gián tiếp là có cơ sở. Nguyên nhân được cho là tuy plasma không hình thành tia UV nhưng hình thành các gốc OH, H, O, H2O2, Cl2, Cl2O2 và tồn tại trong nước. Sau khi các gốc hình thành chúng sẽ tiêu diệt vi khuẩn trong nước. Từ quan sát trên, có thể dự đoán nếu tần số phóng ( tần số riêng) càng lớn thì khả năng xử lý sẽ được gia Hình 11: Tổng hợp kết quả xử, dung môi NaCl, độ tăng. Đáp ứng điện áp trong quá trình phóng điện dẫn điên 15000µS/cm, dung tích xử lý 200ml (điện spark càng có nhiều đỉnh răng cưa thì hiệu quả xử lý áp đo ngõ vào) càng cao. Tại mỗi đỉnh răng cưa là thời điểm xảy ra phóng điện do đó càng nhiều đỉnh sóng thì số lần phóng điện càng nhiều dẫn tới nhiệu quả xử lý tăng. Do đó ảnh hưởng của tần số chưa được khảo sát có thể là yếu tố ảnh hưởng đáng kể. Đánh giá năng lượng Corona pha khí Yong Natalie Yang, Zhang- Nghiê Shainsky, Young I. 2006 n cứu Young Cho, này Alexxande Cho, [34] Alexande r Friman Hình 12: So sánh mẫu E.coli trước và sau khi xử lý r Fridman [34] bằng phóng điện corona (hình trên) và spark (hình [35] dưới): Dung môi NaCl, độ dẫn điên 15000µS/cm, khoảng cách điện cực 2mm, dung tích xử lý 200ml. V RMS 222 17000 120000 20000 Nhiều nghiên cứu chứng tỏ phóng điện spark hiệu [V] quả hơn hăn phóng điện corona. Nguyên nhân là trong phóng điện spark sản sinh tia UV, VUV và I shockwave cường độ cao [34]. Đáp ứng điện áp RMS 0.33 0.02 - 2 trong quá trình phóng điện spark càng có nhiều đỉnh [A] răng cưa thì hiệu quả xử lý càng cao. Tại mỗi đỉnh P=U.I răng cưa là thời điểm xảy ra phóng điện do đó càng 73 340 40000 nhiều đỉnh sóng thì số lần phóng điện càng nhiều [W] dẫn tới nhiệu quả xử lý tăng. Chu Nhưng từ kết quả nghiên cứu này hình 12, đối với kỳ T 20000 58.8 0.6 17.4 plasma tạo bởi phóng điện điện áp thấp thì hiệu quả [µs] xử lý của dạng phóng điện spark thấp hơn corona. 166666 Tần 50 17000 57500 Nguyên nhân được cho là do với điện áp thấp thì khả 7 năng sản sinh tia UV thấp. Khiến cho hiệu quả xử lý số 6
7. [Hz] Bố trí được thí nghiệm và các phép đo cần thiết để khảo sát đặc tính A-V và đáp ứng điện áp và đáp Thể ứng dòng điện ngõ ra đồng thời khảo sát được điều tích 0.25 0.01 1 1 kiện phóng điện spark và corona và ảnh hưởng diện xử lý tích điện cực trong nước tới điện áp phóng. Diện tích [l] tiếp xúc điện cực càng nhiều thì điện áp phóng càng Thời cao. gian 90 90 - 0.002 Chứng minh sự phù hợp của mô hình toán điện trở xử lý với bộ nguồn thiết kế. [s] Thiết kế được thí nghiệm để khảo sát đánh giá khả Năng năng khử khuẩn của mô hình đối với mẫu khuẩn lượng E.Coli thông qua thông số tác động đầu vào là điện / 1 1.46 2 - 0.696 áp và thời gian xử lý đồng thời ghi nhận kết quả diệt xung khuẩn E.Coli giảm 4 mũ khi phóng điện corona [J] trong nước ở mức năng lượng 26.2kJ trên 1L dung Năng 26.2 dịch. Kết quả xý lý bằng phóng điện corona tốt hơn 3000kJ ( 10kJ ( lượng kJ ( 80J ( giảm spark, xử lý kéo dài tốt hơn xử lý trực tiếp. Điện áp giảm 5 giảm xử lý giảm 4 1 mũ) càng cao và thời gian xử lý càng lâu thì hiệu quả xử mũ) 1L mũ) 3 mũ) lý càng tăng. Bảng 4: Đánh giá hiệu quả năng lượng Đáp ứng điệp áp ngõ ra càng xuất hiện nhiều đỉnh sóng thì hiệu quả xử lý được gia tăng. Thời gian xử So sánh với một số nghiên cứu hoàn chỉnh trong lĩnh lý càng lâu thì hiệu quả xử lý càng tăng. vưc. Có thể thấy rằng so với xử lý diệt khuẩn bằng plasma corona pha khí thì phương pháp plasma Việc chế tạo bộ nguồn điện xoay chiều dịch mức phóng điện trực tiếp trong nước hiệu quả hơn khi so cũng cần được hoàn thiện thêm trong nghiên cứu sánh trên mức năng lượng cần cung cấp để xử lý tiếp theo do dạng sóng ghi nhận còn tồn tại giá trị hoàn toàn E.coli trong một đơn vị thể tích là tốt hơn. âm chưa được dịch hoàn toàn. Điều này có thể ảnh hưởng tới chất lượng của plasma được tạo thành do Đối với nghiên cứu [34] thì nghiên cứu này mức chi phóng điện trong nước. Đồng thời thiết kế mạch phí năng lượng cao hơn đáng kể. Ở nghiên cứu này phối hợp trở kháng để có thể đáp ứng được tải của sử dụng tần số điện lưới là 50Hz nên có thể là kênh plasma thay đổi theo thời gian. Thiết kế mạch nguyên nhân khiến năng lượng tiêu thụ lớn hơn so điều chỉnh tần số ngõ ra cũng là một hướng nghiên với nghiên cứu [33] khi sử dụng tầng số rất cao là cứu khả thi. 57500Hz và điện áp rất cao là 20.000V. Ảnh hưởng của độ dẫn điện của nước tới việc phóng 5. Kết luận điện trong nước chưa được hiểu toàn toàn cần được xác định rõ trong những nghiên cứu tiếp theo. Thiết kế và chế tạo được bộ nguồn cao áp xoay chiều dịch mức phục vụ cho việc phóng điện trong Do ảnh hưởng diệt khuẩn kéo dài của dung dịch sau nước công suất 2kW, tần số 50Hz, điện áp ngõ ra sử lý plasma nên có thể xử lý đối vưới thể tích nước 2000V, dòng điện ngõ ra 1A, điện áp ngõ vào 220V, lớn hơn để tận dụng sự tạo thành và tồn tại của gốc dòng điện ngõ vào 10A. OH, O, H, H2O2, Cl2O2 có khả năng diệt khuẩn kéo dài. Thiết kế và chế tạo được mô hình thực nghiệm tạo plasma trong nước bao gồm bộ nguồn điện tạo Nghiên cứu trên nhiều mẫu khuẩn khác để xác minh plasma, kết cấu điện cực có khả năng hỗ trợ khởi tạo tính hiệu quả của mô hình dòng plasma nhờ cơ cấu bẫy bong bóng 7
8. Đánh giá sự ăn mòn điện cực cũng là hướng nghiên cứu tiếp theo cần được chú ý. TÀI LIỆU THAM KHẢO Tiếng việt [1] Nguyễn Đức Long, Nghiên cứu thiết kế chế tạo hệ thống xử lý nước thải y tế mini, luận văn thạc sĩ, trường Đại học Sư Phạm Kỹ Thuật TP.HCM Tiếng Anh [1] Yang, Y., Kim, H., Starikovskiy, A., Fridman, A., and Cho, Y.I., Pulsed multichannel discharge array in water with stacked circular disk electrodes.IEEE Trans. Plasma Sci., 2010: p. submitted. [2] Sato, M., Yamda, Y., Sugiarto, A., Decoloration of dyes in aqueous solution by pulsed discharge plasma in water through pinhole. Trans. Inst. Fluid Flow Machinery, 2000. 107: p. 95-104. [3] Chen, Y.-S., Zhang, X.-S., Dai, Y.-C., and Yuan, W.-K., Pulsed high-voltage discharge plasma for degradation of phenol in aqueous solution. Separation and Purification Technology, 2004. 34: p. 5-12. [4] Kostyuk, P.V., Effect of Ni and TiO 2 on hydrogen generation from aqueous solution with non-thermal plasma. Journal of Physics D: Applied Physics, 2008. 41(9): p. 095202. [5] Shin, W.-T., Yiacoumi, S., Tsouris, C., and Dai, S., A Pulseless Corona-DischargeProcess for the Oxidation of Organic Compounds in Water. Industrial & Engineering Chemistry Research, 2000. 39(11): p. 4408-4414. [6] Miichi, T., Ihara, S., Satoh, S., and Yamabe, C., Spectroscopic measurem of discharges inside bubbles in water. Vacuum, 2000. 59(1): p. 236-243. [7] Akishev, Y., Grushin, M., Karal’nik, V., Monich, A., Pan’kin, M., Trushkin, N., Kholodenko, V., Chugunov, V., Zhirkova, N., Irkhina, I., and Kobzev, E., Generation of a nonequlibrium plasma in heterophase atmospheric- pressure gas-liquid media and demonstration of its sterilization ability. Plasma Physics Reports, 2006. 32(12): p. 1052-1061 [8] Takeda, T., Jen-Shih, C., Ishizaki, T., Saito, N., and Takai, O., Morphology of High-Frequency Electrohydraulic Discharge for Liquid-Solution Plasmas. Plasma Science, IEEE Transactions on, 2008. 36(4): p. 1158-1159. [9] Yukhymenko, V.V., Chernyak, V.Y., and Olshevskii, S.V., Plasma conversion of ethanol-water mixture to synthesis gas. Ukr. J. Phys., 2008. 53: p. 409-413. [10]Hironori, A., Plasma generation inside externally supplied Ar bubbles in water. Plasma Sources Science and Technology, 2008. 17(2): p. 025006. [11]Ishijima, T., Hotta, H., Sugai, H., and Sato, M., Multibubble plasma production and solvent decomposition in water by slot-excited microwave discharge. Applied Physics Letters, 2007. 91(12): p. 121501-3. [12]Ishijima, T., Efficient production of microwave bubble plasma in water for plasma processing in liquid. Plasma Sources Science and Technology, 2010. 19(1): p. 015010. [13]Nomura, S. and Toyota, H., SonoplasmaGenerated by a combination of ultrasonic waves and microwave irradiation. Applied Physics Letters, 2003. 83(22): p. 4503-4505. [14]Nomura, S., Toyota, H., Mukasa, S., Yamashita, H., Maehara, T., and Kuramoto, M., Microwave plasma in hydrocarbon liquids. Applied Physics Letters, 2006. 88(21): p. 211503-3. [15]Nomura, S., Toyota, H., Mukasa, S., Takahashi, Y., Maehara, T., Kawashima, A., and Yamashita, H., Discharge Characteristics of Microwave and High-Frequency InLiquid Plasma in Water. Applied Physics Express. 1: p. 046002. C. Miron1 [16] J.S. Chang, T.Takeda, N. Saito1and O. Takai high frequency bipolar pulsed spark electro-hydraulic discharge characteristics and plasma parameters of liquid solution plasmas 8
9. [17] Helena Oi Lun LI, Jun KANG, Kuniko URASHIMAand Nagahiro SAITO Comparison between the Mechanism of Liquid Plasma Discharge Process in Water and Organic Solution [18] Devins J.C., Rzad S.J., Schwabe R.J., J. Appl. Phys. 52 (7) (1981) 4531−4545. [19] Klimkin V.F., Sov. Phys. Tech. Phys. 36 (9) (1991) 975−977. [20] Kuzhekin I.P., Proc. 9thInt. Symp. High Voltage Eng., Graz, Austria, 28 August− 1 September 1995, 8073- 1−3. [21] Ceccato P., Guaitella O., Shaper L., Graham B., Rousseau A., IEEE Pulsed Power Conf. 1-2 (2009) 863−868. [22] Joshi A.A., Locke B. R., Arce P., Finney W. C., J. Hazard. Mater. 41 (1) (1995) 3−30. [23] Sato M., Ohgiyama T., Clements J.S., IEEE Trans. Ind. Appl. 32 (1) (1996) 106−112. [24] Baird N.C., J. Chem. Ed. 74 (7) (1997) 817−819. [25] Šunka P., Babický V., Člupek M., Lukeš P., Šimek M., Schmidt J., Černák M., Plasma Sources Sci. Technol. 8 (2) (1999) 258−265. [27] Pawlat J., Hayashi N., Yamabe C., Jpn. J. Appl. Phys. 40 (12) (2001) 7061−7066. [28] Pawlat J., Hayashi N., Ihara S., Satoh S., Yamabe C., Pollo I., Adv. Environ. Res. 8 (2002) 351−358. [29] Miichi T., Hayashi N., Ihara S., Satoh S., Yanabe C., Rep. Fac. Sci. Engrg., Saga University 31 (1). [30] Kirkpatrick M.J., Locke B.R., Ind. Eng. Chem. Res. 44 (12) (2005) 4243−4248. [31] Procházková J., Stará Z., Krčma F., Chemické Listy 99 (2005) S606−S608. [32] De Baerdemaeker F., Šimek M., Člupek M., Lukeš P., Leys C., Czech. J. Phys. 56 (2006) B1132– B1139. [33] Zden ka Sta rá, Fr an tišek Krčma, Jan a Prochá zková Physical aspects of diap hragm dis harge creation using constant dc high voltage in electrolyte solution [34] Yong Yang, Young I. Cho,Alexander FridmaPlasma discharg in liquid 2012 [35] Natalie Shainsky, Danil Dobrynin, Utku Ercan, Suresh G. Joshi, Haifeng Ji, Ari Brooks, Gregory Fridman, Young Cho, Alexander Fridman, Gary FriedmanPlasma Acid: Water Treated by Dielectric Barrier Discharge [36] Kaizhuo Lei, Ning Li, Hai Huang, Jianguo Huang, and Jiankang Qu The Characteristics of Underwater Plasma Discharge Channel and Its Discharge Circuit [37] Hyoung S. Kim ,Young I. Cho , In H. Hwang , Dong H. Lee, Daniel J. Cho, Alexander Rabinovich ,Alexander Fridman Use of plasma gliding arc discharges onthe inactivation of E. Coliin water [38] Denis Andrienko Kinetics of Electron Transfer Thông tin liên hệ tác giả chính ( người chịu trách nhiệm bài viết): Họ tên: Vũ Văn Đan Đơn vị: Globetech-Asia Điện thoại: 0909244005 Email: danckm@gmail.com T.p Hồ Chí Minh, Ngày tháng năm 20 Giảng viên hướng dẫn T.S Trần Ngọc Đảm 9
10. BÀI BÁO KHOA HỌC THỰC HIỆN CÔNG BỐ THEO QUY CHẾ ĐÀO TẠO THẠC SỸ Bài báo khoa học của học viên có xác nhận và đề xuất cho đăng của Giảng viên hướng dẫn B n ti ng Vi t ©, T NG I H C S PH M K THU T TP. H CHÍ MINH và TÁC GI Bản quếy n táệc ph mRƯ ãỜ cĐ bẠ o hỌ b Ưi Lu tẠ xu t Ỹb n vàẬ Lu t S hỒ u trí tu Vi t Nam. NgẢhiêm c m m i hình th c xu t b n, sao ch p, phát tán n i dung khi c a có s ng ý c a tác gi và ả ng ề i h ẩ pđh đưm ợK thuả tộ TP.ở H ậChí Mấinh.ả ậ ở ữ ệ ệ ấ ọ ứ ấ ả ụ ộ hư ự đồ ủ ả Trườ Đạ ọCcÓ Sư BÀI BạÁO KHỹ OA ậH C T ồT, C N CHUNG TAY B O V TÁC QUY N! ĐỂ Ọ Ố Ầ Ả Ệ Ề Th c hi n theo MTCL & KHTHMTCL h c 2017-2018 c a T vi n ng i h c S ph m K thu t Tp. H Chí Minh. ự ệ Năm ọ ủ hư ệ Trườ Đạ ọ ư ạ ỹ ậ ồ